氮化硅的应用

在机械工业中用作涡轮叶片、机械密封环、高温轴承、高速切削工具、永久性模具等；冶金工业中用作坩埚、燃烧嘴、铝电解槽衬里等热工设备上的部件；化学工业中用作耐蚀、耐磨零件包括球阀、泵体、燃烧器、汽化器等；电子工业中用作薄膜电容器、高温绝缘体等；航空航天领域用作雷达天线罩、发动机等；原子能工业中用作原子反应堆中的支承件和隔离件、核裂变物质的载体等Si3N4陶瓷具有优异的综合性能和丰富的资源，是一种理想的高温结构材料，具有广阔的应用领域和市场，世界各国都在竞相研究和开发可以预言：随着陶瓷的基础研究和新技术开发的不断进步，特别是复杂件和大型件制备技术的日臻完善，Si3N4陶瓷材料作为性能优良的工程材料将得到更广泛的应用。

图片由杭州海合精密陶瓷提供

氮化硅陶瓷物理特性

氮化硅瓷的主晶相sI：N4晶体右低温型和高箱犀型两种变体，二者均屑六方品泵，晶体结构亦非讳类似英氏硬度为9，加热到℃以上即不可逆刘转变为尽si3N4，公si3N4的莫氏硬度亦为9，没有矮点，在℃左右即分解完毕Si3N4是人造晶体，迈常采用金屑硅氮化、二氧化硅还原、卤化硅氧化、硅始反应等方法合成而得。氮化硅陶瓷线膨胀系数小（2.8-3.2）×10-6/℃，传热系数高，耐热震，从室内温度到℃热冲击性不容易裂开。在常压下，Si3N4没有熔点，于℃左右直接分解，可耐氧化到℃，实际使用知达℃(超过℃力学强度会下降

氮化硅陶瓷化学特性氮化硅陶瓷物理性质平稳，抗腐蚀，除盐酸外不与其他强氧化剂反映，℃干躁氛围下不与氧产生反映，超出℃，刚开始在在表层转化成二氧化硅膜，伴随着溫度上升二氧化硅膜慢慢变平稳，℃上下可与氧转化成高密度二氧化硅膜可维持至℃基础平稳。

图片由杭州海合精密陶瓷提供

氮化硅陶瓷制作工艺流程

制备工艺流程：机械设备混合法运用挤压成型、冲击性、裁切、磨擦等机械设备力将阻燃剂分布均匀在粉体设备颗粒物外表层，使各种各样成分互相渗透到和外扩散，产生包复现阶段关键运用的有球石碾磨法、拌和碾磨法和髙速气旋冲击性法该方式的优势是解决时间较短，反映全过程非常容易操纵，可持续大批量生产，较有益于完成各种各样环氧树脂、石腊类化合物及其流通性阻燃剂对粉体设备颗粒物的包复但此方法仅用以μm级粉体设备的包复，且规定粉体设备具备单一渗透性。烧结工艺流程：气压烧结法（GPS)近几年来，人们对气压烧结进行了大量的研究，获得了很大的进展气压烧结氮化硅在1～10MPa气压下，℃左右温度下进行高的氮气压抑制了氮化硅的高温分解由于采用高温烧结，在添加较少烧结助剂情况下，也足以促进Si3N4晶粒生长，而获得密度99%的含有原位生长的长柱状晶粒高韧性陶瓷.因此气压烧结无论在实验室还是在生产上都得到越来越大的重视.气压烧结氮化硅陶瓷具有高韧性、高强度和好的耐磨性，可直接制取接近最终形状的各种复杂形状制品，从而可大幅度降低生产成本和加工费用.而且其生产工艺接近于硬质合金生产工艺，适用于大规模生产。

图片由杭州海合精密陶瓷提供

密度：3.1-3.3，抗弯强度：-MPa，颜色：黑灰色，纯度：99.9%

制造商：海合氮化硅，特性：低摩擦陶瓷，微观结构：单晶与玻璃相，形状：片形

功能：导热用陶瓷，产品参数：40*10*10MM，价格：15元/件，产地：贵州黔东南州

氮化硅陶瓷的加工激光加工是利用高能量密度(~w/cm2)的均匀激光束作为热源，在加工陶瓷材料表面局部点产生瞬时高温，局部点熔融或汽化而去除材料激光加工是一种无接触、无摩擦式加工技术，加工过程中不需模具，通过控制激光束在陶瓷材料表面的聚焦位置，实现三维复杂形状材料的加工一般激光钻孔和切割所需激光功率为W~15kW但同放电加工一样，由于陶瓷材料热导率低，高能束可能会在材料表面产生热应力集中，形成微裂纹、大的碎屑、甚至材料断裂。

氮化硅陶瓷会产生哪些危害？尘肺，说白了，便是肺脏堆积尘土造成的病症陶工尘肺病是瓷器制造行业最普遍的职业危害，也是一种恐怖的职业危害，现阶段沒有治疗药物能够除根；还会继续伴随着時间的变化渐渐地恶变、加剧，对肺功能检查导致损害假如悲剧得了尘肺，只有根据用药治疗来操纵病况，改进病症。

转载请注明:http://www.aideyishus.com/lkcf/7552.html